PURITO - DEFENCE BARRIER PH CLEANSER - čistící pěna 150 ml

399 Kč
Skladem
Můžeme doručit do:
26.6.2024
Možnosti doručení

PURITO Defense Barrier pH Cleanser je šetrný a účinný čisticí gel, který se zaměřuje na důkladné a jemné čištění pokožky. S pH hodnotou 5,5, která se blíží přirozenému pH pokožky, tento gel dokonale vyčistí pokožku od nečistot a zároveň posílí ochrannou bariéru pokožky, chrání ji před ztrátou vlhkosti a podporuje její zdraví.

Detailní informace

Detailní popis produktu

VLASTNOSTI A HLAVNÍ SLOŽKY PRODUKTU

PURITO Defense Barrier pH Cleanser má pH hodnotu 5,5, což je ideální pro udržení rovnováhy pokožky. Mírně kyselá formulace chrání ochrannou bariéru pokožky a zabraňuje jejímu přílišnému vysušování. Tento gel je také bez síranů, což znamená, že neobsahuje dráždivé sulfáty, což je výhodou pro citlivou a suchou pokožku.

S PURITO Defense Barrier pH Cleanser získáte šetrný a účinný čisticí gel, který vám pomůže udržet pleť čistou, zdravou a vyváženou.

 
  • Extrakt z čajovníku (Tea Tree Extract): Tato složka je známá svými antibakteriálními a protizánětlivými vlastnostmi. Pomáhá bojovat proti akné a podráždění pokožky.

  • Extrakt z Centella asiatica: Tento extrakt je bohatý na antioxidanty a má hojivé a uklidňující účinky. Pomáhá zlepšit texturu pokožky, redukovat podráždění a podporuje obnovu pokožky.

  • Další přírodní rostlinné extrakty: Kromě čajovníku a Centella asiatica obsahuje tento čistící gel také další přírodní rostlinné extrakty, které mají zklidňující a ochranné účinky na pokožku. Tyto extrakty dodávají pleti dodatečnou výživu a podporují její zdraví.

  • pH hodnota 5,5: Tento čistící gel má mírně kyselou pH hodnotu 5,5, která se blíží přirozenému pH pokožky. Tato pH hodnota pomáhá udržovat rovnováhu pokožky a chrání její ochrannou bariéru.

  • Bez síranů: PURITO Defense Barrier pH Cleanser je bez síranů, což znamená, že neobsahuje dráždivé sulfáty. To je výhodou pro ty, kteří mají citlivou nebo suchou pokožku, protože nedráždí a nevysušuje.

PURITO - DEFENCE BARRIER PH CLEANSER je vhodný pro použití v rámci korejské rutiny včetně double cleansing. Zde je návod, jak používat tento produkt:

  1. Double Cleansing: Začněte korejskou rutinou double cleansing. Prvním krokem je použití olejového čističe, abyste odstranili make-up, nečistoty a olej z pokožky. Následně použijte PURITO - DEFENCE BARRIER PH CLEANSER jako druhý krok čištění.

  2. Navlhčete obličej: Navlhčete obličej vodou. Můžete použít teplou vodu, která pomůže otevřít póry a usnadnit čištění.

  3. Aplikace čističe: Vezměte malé množství PURITO - DEFENCE BARRIER PH CLEANSER na dlaně a vytvořte pěnu třením mezi dlaněmi a přidáním vody. Pěnu jemně aplikujte na obličej a krk.

  4. Masírování: Jemně masírujte pokožku krouživými pohyby, abyste důkladně odstranili nečistoty a zbytky make-upu. Věnujte zvláštní pozornost problematickým oblastem.

  5. Opláchněte: Důkladně opláchněte obličej vodou, abyste odstranili všechnu pěnu a čistič z pokožky.

  6. Pokračujte s dalšími kroky: Po double cleansingu pokračujte s dalšími kroky vaší korejské rutiny, jako je tonizace, aplikace esence, séra, hydratačního krému a dalších přípravků, které používáte v rámci vaší péče o pleť.

PURITO - DEFENCE BARRIER PH CLEANSER je formulován tak, aby udržoval rovnováhu pH pokožky a posiloval ochrannou bariéru. Je vhodný pro všechny typy pleti a přispívá k čisté, hydratované a zdravé pleti.

SLOŽENÍ

Water, Coco-Betaine (cleansing agents), Sodium Lauroyl Methyl Isethionate (cleansing agents), Arginine(pH Adjusters), Sodium Chloride(Viscosity Increasing Agents), Betaine(Humectants), Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer(Viscosity Increasing Agents), Hydroxyacetophenone(Antioxidants), Sodium Methyl Isethionate(cleansing agents), Lauric Acid(cleansing agents), Centella Asiatica Extract (skin-conditioning agents), Sodium Laurate(cleansing agents), Melaleuca Alternifolia (Tea Tree) Leaf Oil(Skin-Conditioning Agents), Ethylhexylglycerin(skin-conditioning agents), Allantoin (skin protectants), Disodium EDTA (stabilizer), 1,2-Hexanediol(Solvents) (0821)

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole:

Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.

Nevyplňujte toto pole: