Round Lab - Pine Cica Deep Pore Clay Mask Cleanser - Jílová čisticí maska a cleanser s BHA, CICA a 5 druhy jílu 150 ml
Multifunkční jílový čisticí přípravek 2v1, který lze používat jako každodenní cleanser i jako intenzivnější smývací masku na póry. Kombinuje 5 druhů jílu, aktivní uhlí a kyselinu salicylovou (BHA) pro odstranění přebytečného mazu, nečistot a péči o zanesené póry. Komplex Pine Cica ACTIVER™ s borovicí a Centella Asiatica současně pomáhá zklidňovat namáhanou a problematickou pleť.
.png?69d6c9d5)

.png?69d6f849)
Vlastnosti
Čisticí přípravek a jílová maska v jednom - podle aktuálních potřeb pleti jej můžete použít jako oplachový cleanser nebo jej nechat několik minut působit jako intenzivnější masku.
5 druhů jílu pro absorpci mazu - Bentonite, Kaolin, Hectorite, Illite a Montmorillonite pomáhají absorbovat přebytečný kožní maz a odstraňovat nečistoty z povrchu pokožky.
Hloubková péče o zanesené póry - jílový komplex doplňuje Charcoal Powder a kyselina salicylová, díky čemuž je produkt zaměřený zejména na mastnou pleť, černé tečky a viditelné póry.
BHA exfoliace kyselinou salicylovou - Salicylic Acid je lipofilní exfoliační kyselina, která pomáhá uvolňovat nahromaděný maz a odumřelé buňky a podporuje čistší vzhled pórů.
Aktivní uhlí - Charcoal Powder má absorpční vlastnosti a pomáhá zachytávat přebytečný maz a nečistoty.
Pine Cica ACTIVER™ - komplex založený na složkách z borovice Pinus Densiflora a Centella Asiatica doplňuje intenzivní čisticí účinek o zklidňující péči.
Komplex CICA aktivních látek - Centella Asiatica doplňují Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside a Asiatic Acid, které pomáhají pečovat o namáhanou a problematickou pokožku.
Jemné pěnivé čištění - Coco-Glucoside, Potassium Cocoyl Glycinate, Sodium Cocoyl Glycinate a Decyl Glucoside pomáhají odstranit maz a běžné nečistoty při použití produktu jako cleanseru.
Hladší a čistší vzhled pokožky - pravidelné odstranění přebytečného mazu a nahromaděných odumřelých buněk pomáhá zlepšovat vzhled hrubší textury a zvýrazněných pórů.
Aktivní látky
5-Clay Complex - Bentonite, Kaolin, Hectorite, Illite a Montmorillonite tvoří komplex pěti minerálních jílů s absorpčními vlastnostmi. Pomáhají zachytávat přebytečný kožní maz a povrchové nečistoty a zanechávat pleť čistší a matnější.
Salicylic Acid (BHA) - kyselina salicylová je rozpustná v tucích, a proto je oblíbenou složkou kosmetiky zaměřené na mastnou pleť, zanesené póry a černé tečky. Pomáhá uvolňovat nahromaděný maz a odumřelé kožní buňky.
Charcoal Powder - aktivní uhlí s absorpčními vlastnostmi pomáhá zachytávat přebytečný maz a nečistoty.
Pinus Densiflora Leaf Powder a Pinus Densiflora Leaf Extract - prášek a extrakt z jehličí korejské červené borovice jsou součástí komplexu Pine Cica ACTIVER™ a poskytují antioxidační a zklidňující kosmetickou péči.
Centella Asiatica - receptura obsahuje Centella Asiatica v několika podobách, včetně Leaf/Stem Powder, Leaf Extract a Extract. CICA pomáhá zklidňovat namáhanou pokožku a podporovat její komfort.
Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside a Asiatic Acid - charakteristické aktivní složky Centella Asiatica doplňují zklidňující péči o problematickou a namáhanou pokožku.
Salix Alba (Willow) Bark Extract - extrakt z vrbové kůry doplňuje péči zaměřenou na přebytečný kožní maz a nerovnoměrnou texturu. Ve složení je zároveň samostatně přítomná skutečná kyselina salicylová.
Camellia Sinensis Leaf Extract - zelený čaj poskytuje antioxidační a zklidňující péči.
Glycerin - humektant pomáhající udržovat vodu v pokožce a vyvažovat intenzivnější absorpční charakter jílové receptury.
Pro jaké typy pleti je vhodný
Pro mastnou pleť - pět druhů jílu, aktivní uhlí a kyselina salicylová vytvářejí kombinaci zaměřenou na nadměrnou tvorbu mazu, zanesené póry a lesklou pokožku.
Pro smíšenou pleť - ideální zejména pro mastnější T-zónu. Jako masku jej lze aplikovat pouze na čelo, nos a bradu a vynechat sušší části obličeje.
Pro problematickou pleť - BHA, jíly a aktivní uhlí pomáhají pečovat o zanesené póry a přebytečný maz, zatímco komplex Pine Cica ACTIVER™ a další CICA složky poskytují zklidňující péči.
Pro pleť s černými tečkami - kyselina salicylová pomáhá uvolňovat nahromaděný maz a odumřelé kožní buňky a je vhodnou složkou péče o černé tečky.
Pro pleť s rozšířenými póry - odstraněním přebytečného mazu a nahromaděných nečistot pomáhá, aby póry působily čistší a opticky méně výrazné. Produkt póry trvale „nestahuje“, protože jejich skutečnou velikost kosmetický přípravek změnit nedokáže.
Pro pleť s nerovnoměrnou a hrubší texturou - BHA exfoliace společně s důkladným čištěním pomáhá podporovat hladší a jemnější vzhled pokožky.
Pro normální pleť - vhodný spíše jako příležitostná maska nebo lokální péče na oblasti se zvýšenou produkcí mazu než jako nezbytná každodenní péče.
Jak používat
Jako čisticí přípravek: Naneste malé množství na navlhčenou pokožku obličeje. Jemně masírujte krouživými pohyby, dokud se nevytvoří pěna, a následně důkladně opláchněte vlažnou vodou.
Jako jílovou masku: Naneste dostatečnou rovnoměrnou vrstvu na suchou nebo lehce navlhčenou pokožku a vyhněte se okolí očí a rtů. Nechte působit 5-10 minut a důkladně opláchněte vlažnou vodou. Jako masku používejte přibližně 2-3krát týdně podle potřeb a tolerance pokožky.
Vzhledem k obsahu kyseliny salicylové není u citlivější pleti nutné ve stejné rutině přidávat další silný AHA/BHA peeling nebo jinou intenzivní exfoliační péči. Přes den používejte SPF ochranu.
Proč si produkt zamilujete
Round Lab Pine Cica Deep Pore Clay Mask Cleanser spojuje čisticí pěnu a jílovou masku v jediném produktu, takže intenzitu péče můžete snadno přizpůsobit aktuálním potřebám pokožky. Pět druhů jílu společně s aktivním uhlím absorbuje přebytečný maz a pomáhá čistit póry, zatímco kyselina salicylová (BHA) se zaměřuje na nahromaděný maz, černé tečky a odumřelé kožní buňky. Intenzivní čisticí koncept vyvažuje Pine Cica ACTIVER™ a komplex Centella Asiatica, které poskytují zklidňující péči. Je proto zajímavou volbou především pro mastnou, smíšenou a problematickou pleť, která řeší současně lesk, viditelné póry, černé tečky a nerovnoměrnou texturu.
Složení produktu (INCI)
Water, Glycerin, Bentonite, Methylpropanediol, Kaolin, Hectorite, Myristic Acid, Coco-Glucoside, Potassium Cocoyl Glycinate, Palmitic Acid, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Cellulose, Titanium Dioxide, Stearic Acid, Potassium Hydroxide, Charcoal Powder, Salicylic Acid, Sodium Cocoyl Glycinate, Dimethyl Isosorbide, Magnesium Aluminum Silicate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Hydroxyacetophenone, Centella Asiatica Leaf/Stem Powder, Pinus Densiflora Leaf Powder, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Pinus Sylvestris Leaf Oil, Sodium Phytate, Agar, Decyl Glucoside, Pelargonium Graveolens Flower Oil, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Chondrus Crispus Extract, Camellia Sinensis Leaf Extract, Salix Alba (Willow) Bark Extract, Cladosiphon Okamuranus Extract, Centella Asiatica Leaf Extract, Cymbopogon Citratus Leaf Oil, Coffea Arabica (Coffee) Seed Extract, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Leaf Extract, Pinus Densiflora Leaf Extract, Illite, Montmorillonite, Centella Asiatica Extract, Glycoproteins, Madecassoside, Madecassic Acid, Asiaticoside, Asiatic Acid, Limonene, Linalool.
| Kategorie: | Čištění pleti na vodní bázi - 2. krok dvojího čištění |
|---|---|
| EAN: | 8809962542793 |
| Typ produktu: | Čistící pěna 2. krok čištění, Smývatelná maska, Pěna |
| Množství: | 150 ml |
| Typ pleti: | Mastná pleť, Normální pleť, Smíšená pleť |
| Čas použití: | Denní i noční |
| Určení: | Obličej |
| Značka: | Round Lab |
| Neobsahuje alergeny: | Parfemace, Esenciální oleje, Propolis, Včelí jed, Hlemýždí sekret, Tea tree, Med |
| Bezpečnostní upozornění: | Pouze pro vnější použití. Zamezte kontaktu s očima. Uchovávejte mimo dosah dětí. Nepoužívejte na poraněnou nebo podrážděnou pokožku. V případě podráždění přerušte používání a poraďte se s dermatologem. Skladujte v suchu a mimo přímé sluneční světlo. |
Hodnocení produktu
Buďte první, kdo napíše příspěvek k této položce.
| Výrobní společnost : | Cosmecca Korea Co., Ltd |
|---|---|
| Adresa : | 17-12, Daegeum-ro 196beon-gil, Daeso-myeon, Eumseong-gun, Chungcheongbuk-do, Republic of Korea |
| E-mail : | cs@roundlab.co.kr |

